1. Proses pewarnaan
Melalui proses peracikan pelapisan, lem yang dicampur dengan pewarna dilapisi pada PET atau di antara dua lapisan film PET, dan substrat PET diwarnai agar menunjukkan warna yang berbeda sesuai kebutuhan. Keunggulannya adalah warna yang beragam, proses sederhana, dan biaya rendah; kekurangannya adalah tidak tahan terhadap radiasi ultraviolet, mudah luntur, dan umur simpan yang pendek.
2. Teknologi penyemprotan vakum
Lapisan evaporasi vakum Dengan menerapkan proses evaporasi termal (untuk logam murni dengan suhu leleh rendah), film dapat dilapisi dengan berbagai lapisan logam, paduan atau oksida. Proses penyemprotan vakum biasanya menggunakan lapisan aluminium murni, dan dapat dibuat menjadi film dengan transmisi cahaya tampak dan reflektifitas yang berbeda, sehingga film tersebut memiliki kinerja pengendalian sinar matahari terbaik.
3. Teknologi sputtering magnetron
Metode pelapisan sputtering magnetron adalah proses lanjutan yang dikembangkan pada akhir tahun 1970an. Ia menggunakan peralatan vakum khusus untuk mengenai berbagai target logam atau komposit logam dengan ion bermuatan di bawah pengaruh energi listrik. Beberapa lapisan lapisan film logam padat, reflektif rendah, dan insulasi panas tinggi dibuat, yang dilapisi pada permukaan substrat secara teratur dan merata. Proses gabungan digunakan untuk menciptakan berbagai warna yang unik dan stabil serta selektivitas transmisi tingkat tinggi. , memastikan produk memiliki ketangguhan yang cukup, tahan ledakan, insulasi panas, tahan UV 99%, dan memiliki umur simpan yang lama. Dibandingkan dengan proses penyemprotan vakum tradisional, proses sputtering magnetron memiliki banyak keunggulan, seperti daya rekat yang lebih kuat antara lapisan dan substrat; ia dapat dengan mudah menghasilkan lapisan tipis zat dengan titik leleh tinggi; itu dapat diproduksi pada substrat kontinu dengan area luas. Dapatkan film yang lebih seragam; mudah untuk mengontrol komposisi pelapis, dan berbagai pelapis paduan dengan komposisi dan rasio berbeda dapat diproduksi.
Prinsip proses sputtering magnetron adalah mengirimkan substrat ke dalam ruang vakum yang dilengkapi dengan katoda magnetron dan gas sputtering (argon). Tegangan negatif diterapkan ke katoda, dan pelepasan cahaya terjadi di ruang vakum untuk menghasilkan plasma. Karena target logam mempunyai muatan negatif, ion gas bermuatan positif dalam plasma dipercepat dan mengenai permukaan target dengan energi yang setara dengan penurunan posisi kutub target U, meledakkan atom-atom target logam dan mengendapkannya di permukaan. substrat untuk membentuk film logam.
4. Proses komposit laminasi
Kaca film adalah bahan film komposit poliester fungsional multi-lapis. Lapisan tipis dengan fungsi berbeda-beda dipadukan melalui perekat, sehingga memiliki fungsi tahan ledakan, insulasi panas, dan pengaman.
Hanya sistem pelapisan presisi tinggi yang dapat memastikan bahwa berbagai parameter proses dikontrol secara efektif selama proses pembuatan kaca film.
Proses produksi kaca film
Aug 11, 2023
Tinggalkan pesan
